[한국반도체] Material : SiOx , Silicon Oxide

1. SiOx 정의

 

 실리콘 산화물로 일반적으로 사용하는것은  SiO2이다 . 하지만 PECVD로 증착을 할때 여러가지 상태 (Phase)가 있게 되며 이를  통합하여 일반적으로 SiOx라한다.  SiOx는 Si자체를 산화하여 만드는 개념으로 계면 접착력등이 우수하다.  

 

* Nicolae Tomozeiu의 Paper에 따르면  SiOx의 x는 0<x<2에서 존재한다.

2. 결합  

 

 PECVD로 제조를 할때 SiH4 (실란) Gas와 N2O (이산화질소) 를 주입하여  SiOx를 제조하게 된다. 

 SiNx 와 마찬가지로 SiH4를 불활성기체 (N2, Ar등)에 혼합하여 주입을 한다. 

 증착막의 특성은 N2O와 SiH4의 유량비에의해 결정되며 , N2O함량이 높을수록  Depo rate, RI가 떨어지는 특성이있다.